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本实用新型提供一种卧式半导体工艺炉的反应腔室及包含该反应腔室的卧式半导体工艺炉。卧式半导体工艺炉的反应腔室包括进气口和抽气口，还包括匀流板组件，匀流板组件设置于反应腔室的后炉门上，且遮挡位于后炉门上的抽气口；匀流板组件包括一个、或者至少两个...
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