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本发明的衬底处理液的特征在于：能够用于去除具有图案形成面的半导体衬底等衬底上的液体，且包含：作为升华性物质的环己酮肟；以及选自由醇类、酮类、醚类、环烷烃类及水所组成的群中的至少1种溶剂。...
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