衬底处理液制造技术

本发明专利技术的衬底处理液的特征在于：能够用于去除具有图案形成面的半导体衬底等衬底上的液体，且包含：作为升华性物质的环己酮肟；以及选自由醇类、酮类、醚类、环烷烃类及水所组成的群中的至少1种溶剂。

【技术实现步骤摘要】
衬底处理液
本专利技术涉及一种用于去除附着在例如半导体衬底、光罩用玻璃衬底、液晶显示用玻璃衬底、等离子体显示用玻璃衬底、FED(FieldEmissionDisplay，场发射显示器)用衬底、光盘用衬底、磁盘用衬底、磁光盘用衬底等各种衬底的液体的衬底处理液。
技术介绍
近年来，随着形成在半导体衬底等衬底的图案的微细化，具有凹凸的图案的凸部的纵横比(图案凸部的高度与宽度的比)变大。因此，存在所谓图案倒塌的问题，即，在干燥处理时，作用在进入到图案凹部的清洗液或冲洗液等液体与接触液体的气体的交界面的表面张力牵引图案中相邻的凸部彼此，使其倒塌。作为以防止这种图案的倒塌为目的的干燥技术，例如日本专利特开2012-243869号公报中公开了一种去除表面形成有凹凸图案的衬底上的液体，使衬底干燥的衬底干燥方法。根据该衬底干燥方法，向衬底供给升华性物质的溶液，将所述溶液填充到图案的凹部内，使所述溶液中的溶剂干燥，以固体状态的所述升华性物质填满所述图案的凹部内，将衬底加热到高于升华性物质的升华温度的温度，从衬底去除升华性物质。由此，在日本专利特开2012-243869号公报中，能够抑制可因衬底上的液体的表面张力而产生的欲使图案的凸状部倒塌的应力作用在图案的凸状部，防止图案倒塌。另外，日本专利特开2017-76817号公报中公开了一种半导体装置的制造方法，在进行形成有微细图案的半导体衬底的表面的升华干燥时，使用将环己烷-1,2-二羧酸等析出物质溶解在脂肪族烃等溶剂中所得的溶液。通过该半导体装置的制造方法，在对液体处理后的半导体衬底进行干燥时，能够抑制图案倒塌。如果是这些专利文献中公开的升华干燥方法，那么相较于例如通过使衬底高速旋转来去除附着在衬底表面的液体的旋转干燥的方法、或将附着在该衬底表面的液体替换成IPA(异丙醇)并使该IPA升华干燥而去除的干燥方法，能够降低图案的倒塌率。但是，在图案的机械强度极低的情况下，以往的升华干燥方法也存在局部产生图案倒塌的问题。
技术实现思路
本专利技术是鉴于所述问题而完成，目的在于提供一种衬底处理液，其能够防止形成在衬底表面的图案的部分或局部倒塌，并且去除附着在衬底表面的液体。为了解决所述问题，本专利技术的衬底处理液用于去除具有图案形成面的衬底上的液体，且包含：作为升华性物质的环己酮肟；以及选自由醇类、酮类、醚类、环烷烃类及水所组成的群中的至少1种溶剂。所述构成的衬底处理液在例如在衬底的图案形成面上存在液体的情况下，能够利用升华干燥(或冷冻干燥)的原理而防止图案的倒塌，并且去除该液体。尤其是所述构成的衬底处理液通过包含作为升华性物质的环己酮肟及醇类等溶剂，与以往的使用升华性物质的衬底处理液相比，能够良好地抑制衬底的图案形成面的部分或局部区域的图案倒塌。进而，所述构成的衬底处理液不仅限于具备表面特性为疏水性的图案形成面的衬底，即便在亲水性的情况下，与以往的衬底处理液相比，也能够抑制部分或局部区域的图案倒塌。进而，对于具备微细且纵横比大的图案的衬底，与以往的衬底处理液相比，也能够抑制部分或局部区域的图案倒塌。在所述构成中，所述环己酮肟的含量优选相对于衬底处理液的总体积为0.1vol％以上10vol％以下的范围。通过将环己酮肟的含量设为相对于衬底处理液的总体积为0.1vol％以上，能够良好地抑制衬底的图案形成面的部分或局部区域的图案倒塌。另一方面，通过将环己酮肟的含量设为相对于衬底处理液的总体积为10vol％以下，能够使环己酮肟相对于常温下的溶剂的溶解性良好而均匀地溶解。在所述构成中，所述溶剂优选为选自由甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、叔丁醇、环己醇、丙酮、丙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、环己烷及水所组成的群中的至少1种。本专利技术的衬底处理液与以往的含有升华性物质的衬底处理液相比，能够抑制衬底的图案形成面的图案倒塌，特别是能够良好地抑制图案形成面的部分或局部区域的图案倒塌。进而，对于具备表面特性为亲水性的图案形成面的衬底、或具备微细且纵横比较大的图案的衬底，与以往的衬底处理液相比，也能够良好地抑制部分或局部区域的图案倒塌。具体实施方式(衬底处理液)以下对本专利技术的实施方式的衬底处理液进行说明。首先，本说明书中的“衬底”是指半导体衬底、光罩用玻璃衬底、液晶显示用玻璃衬底、等离子体显示用玻璃衬底、FED(FieldEmissionDisplay)用衬底、光盘用衬底、磁盘用衬底、磁光盘用衬底等各种衬底。另外，本说明书中的“图案形成面”是指在衬底中，在任意的区域形成凹凸图案的面，而不论是平面状、曲面状或凹凸状中的哪一个。进而，本说明书中的“升华性”是指单质、化合物或混合物具有不经过液体而从固体向气体、或从气体向固体相转移的特性，“升华性物质”是指具有这种升华性的物质。本实施方式的衬底处理液至少包含环己酮肟、及溶剂。本实施方式的衬底处理液在用来去除存在于衬底的图案形成面的液体的干燥处理中，起到辅助该干燥处理的作用。环己酮肟由以下的化学式(1)表示，能够在本实施方式的衬底处理液中作为升华性物质发挥功能。另外，环己酮肟具有如下物性值：凝固点为90.5℃，沸点为210℃，蒸气压为0.00717Torr～251.458Torr(0.96Pa～33.52kPa)，熔解熵ΔS为30.0J/mol·K、正辛醇/水分配系数为+1.2。如果为环己酮肟所具有的凝固点，那么能够防止图案形成面的狭窄处的凝固点下降引起的凝固(冷冻)不良。另外，能够不需要凝固时的冷媒。环己酮肟优选以溶解在溶剂中的状态存在于衬底处理液中。环己酮肟的含量例如可根据将衬底处理液供给到衬底的图案形成面上时的供给条件等适当设定，优选相对于衬底处理液的总体积为0.1vol％以上10vol％以下，更优选为1.25vol％以上5vol％以下，特别优选为2vol％以上4vol％以下。通过将环己酮肟的含量设为0.1vol％以上，对于具有微细且纵横比大的图案的衬底，也能够进一步良好地抑制部分或局部区域的图案倒塌。另一方面，通过将环己酮肟的含量设为10vol％以下，能够使环己酮肟相对于常温下的溶剂的溶解性良好而均匀地溶解。此处，本说明书中的“常温”是指5℃～35℃的温度范围。另外，本说明书中的“溶解性”是指环己酮肟例如相对于23℃的溶剂100g溶解10g以上。所述溶剂能够作为使环己酮肟溶解的溶剂发挥功能。所述溶剂具体来说是选自由醇类、酮类、醚类、环烷烃类及水所组成的群中的至少1种。所述醇类无特别限定，例如可列举：甲醇(熔点：-98℃、正辛醇/水分配系数：-0.82～-0.66)、乙醇(熔点：-117℃、正辛醇/水分配系数：-0.32)、异丙醇(熔点：-90℃、正辛醇/水分配系数：+0.05)、正丁醇(熔点：-90℃、正辛醇/水分配系数：+0.88)、叔丁醇(熔点：25℃、正辛醇/水分配系数：+0.3)、环己醇(熔点：23℃～25℃、正辛醇/水分配系数：+1.2)等。所述酮类无特别限定，例如可列举丙酮(熔点：-95℃、正辛醇/水分配系数：-0.24)等本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种衬底处理液，其用于去除具有图案形成面的衬底上的液体，且包含：/n作为升华性物质的环己酮肟；以及/n选自由醇类、酮类、醚类、环烷烃类及水所组成的群中的至少1种溶剂。/n

【技术特征摘要】
20190628 JP 2019-1206551.一种衬底处理液，其用于去除具有图案形成面的衬底上的液体，且包含：
作为升华性物质的环己酮肟；以及
选自由醇类、酮类、醚类、环烷烃类及水所组成的群中的至少1种溶剂。


2.根据权利要求1所述的衬底处理液，其中所述环己酮肟的含量相对于衬底处理液的总体积为...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐佐木悠太，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本;JP