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本发明描述含有经高精度塑形的表面的研磨表面及垫修整器，包含可用于修整化学机械处理CMP垫的垫修整器，及其相关方法。...
该专利属于恩特格里斯公司所有，仅供学习研究参考，未经过恩特格里斯公司授权不得商用。

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