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本申请涉及一种高密度图案化加工的衬底‑掩模板原位保持装置，包括真空连接台、底座、衬底保持器和掩模板保持器，所述真空连接台设置第一快速插口和气口；所述底座的上端面设置有第一凸台和第一气孔，所述底座连接在所述真空连接台的上端面、且所述第一气孔与...
该专利属于北京航空航天大学杭州创新研究院所有，仅供学习研究参考，未经过北京航空航天大学杭州创新研究院授权不得商用。

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