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本发明提供了一种在光学系统，包括集成的光学波导器件结构上制备光学质量硅表面的系统和方法。粗糙表面通过干刻蚀过程形成。热氧化物在表面上通过湿或干的氧化过程生长。使用基于ＨＦ的溶液来刻蚀生长的氧化物，降低表面的粗糙度。为了获得所需程度的平滑度，...
该专利属于英特尔公司所有，仅供学习研究参考，未经过英特尔公司授权不得商用。

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