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提供抑制样品的污染并使处理的成品率提升的等离子处理装置或等离子处理装置的内部构件或该内部构件的制造方法。等离子处理装置使用从提供到处理室内的处理用气体形成的等离子对配置于真空容器内部的该处理室内的处理对象的晶片进行处理，配置于所述处理室内的...
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