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本发明提供一种工艺腔室，包括腔室本体、基座、进气组件和射频线圈组件，其中，射频线圈组件设置在腔室本体顶部的中部区域；基座设置在腔室本体内，用于承载晶片；进气组件可移动的设置在腔室本体的边缘区域，并穿过腔室本体的侧壁，用于向腔室本体内喷射工艺...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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