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一种用于基体的真空处理设备，其包括真空处理装置（3）。输入负载锁装置（1i）朝向真空处理装置（3）引导并且引导到真空处理装置（3）中，并且输出负载锁装置（1o）从真空处理装置（3）引导出来。两个负载锁装置（1i，1o）中的一个（1i）包括串...
该专利属于瑞士艾发科技所有，仅供学习研究参考，未经过瑞士艾发科技授权不得商用。

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