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产生用于阵列区的缺陷样本制造技术
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下载产生用于阵列区的缺陷样本的技术资料
文档序号:26695423
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本发明提供用于产生用于样品的缺陷样本的方法及系统。一种方法包含基于通过输出获取子系统的检测器产生的输出检测样品上的缺陷。对于在所述样品上的阵列区中检测到的所述缺陷,其中所述阵列区包含多个阵列单元类型,所述方法包含基于所述多个阵列单元类型堆叠...
该专利属于科磊股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过科磊股份有限公司授权不得商用。
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