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本申请公开了一种对位标记及其制备方法，其中，所述对位标记包括分别位于各层功能膜层上的标记图案，以及用于固定所有所述标记图案的固定膜层，所述固定膜层的延伸方向与所述功能膜层的表面相交，由于所述固定膜层的存在，使得各层功能膜层中的临时结构被刻蚀...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。

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