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公开了一种用于形成图案的方法，该方法能够通过以下步骤来改善线宽粗糙度(LWR)：在刻蚀目标层上形成第一抗蚀剂材料；在第一抗蚀剂材料上形成包括遮光部分和透光部分的第二抗蚀剂材料；使用第二抗蚀剂材料的遮光部分作为曝光掩模来曝光第一抗蚀剂材料；去...
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