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本发明关于检查掩模的方法及装置，其中方法包含以下步骤：测量由于在至少一个衍射级的衍射而在光瞳平面中在照明掩模上存在的掩模结构(11，21)时产生的第一强度分布(14，24)，其中该衍射级为第+1级衍射、第‑1级衍射或更高级的衍射；测量由于在...
该专利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡尔蔡司SMT有限责任公司授权不得商用。

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