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本发明提供一种调平机构、反应腔室及半导体加工设备，该调平机构包括沿待调平件的周向间隔分布的至少三个高度调节组件，每个高度调节组件包括：支撑件，设置在待调平件的底部，用于支撑待调平件；配合件，位于支撑件的下方，并且配合件具有相对于水平面倾斜的...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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