温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本文描述了一种处理基板的系统。包括：腔室主体，在所述腔室主体中限定处理空间，基板支撑组件，所述基板支撑组件设置在所述处理空间中，所述基板支撑组件具有静电卡盘和加热器；第一传感器；和控制器，所述控制器接收来自所述第一传感器的信号，所述信号对应...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。