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本发明公开了一种薄膜体声波谐振器及其制造方法及滤波器、电子设备,其中所述制造方法包括:形成电极层,刻蚀所述电极层,所述刻蚀电极层的步骤包括:在所述电极层上形成光阻挡层,所述光阻挡层能够阻止光线的通过,并能作为图形化所述电极层的掩膜层;在所述...该专利属于中芯集成电路(宁波)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯集成电路(宁波)有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种薄膜体声波谐振器及其制造方法及滤波器、电子设备,其中所述制造方法包括:形成电极层,刻蚀所述电极层,所述刻蚀电极层的步骤包括:在所述电极层上形成光阻挡层,所述光阻挡层能够阻止光线的通过,并能作为图形化所述电极层的掩膜层;在所述...