专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
长鑫存储技术有限公司
>
存储结构及其形成方法技术
>技术资料下载
下载存储结构及其形成方法的技术资料
文档序号:26603280
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种存储结构及其形成方法,其中所述存储结构,包括:位于每个有源区中的沿行方向分布的两个第二凹槽,所述两个第二凹槽将每个有源区分成位于中间的漏极和分别位于漏极两侧的两个源极,且所述两个第二凹槽分别位于第二抗刻蚀介电层两侧,所述绝缘层的表面低于...
该专利属于长鑫存储技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过长鑫存储技术有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。