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本发明提供了一种用于检测曝光机台透镜眩光程度的光掩膜版及方法。上述光掩膜版包括中心曝光区域和外围区域，上述曝光机台的曝光光线经过上述透镜后透过上述中心曝光区域对晶圆上的光刻胶进行曝光，其中，整个上述中心曝光区域设置有遮光层，以阻止上述曝光光...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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