温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明提供一种真空镀膜设备多路入气多级整流工艺,即便是面对大面积的基片,其也可以使基片上的镀膜效果一致,可以明显提升整体镀膜均匀性。本发明技术方案中,将整流板分割为N×S个独立气流控制区域,采用离散式的气路控制模式,结合各区域内基材、工艺气...该专利属于无锡爱尔华光电科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过无锡爱尔华光电科技有限公司授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明提供一种真空镀膜设备多路入气多级整流工艺,即便是面对大面积的基片,其也可以使基片上的镀膜效果一致,可以明显提升整体镀膜均匀性。本发明技术方案中,将整流板分割为N×S个独立气流控制区域,采用离散式的气路控制模式,结合各区域内基材、工艺气...