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一种半导体封装可以包括：第一钝化层，与一个或多个第一凸块形成电连接；衬底层，包括第二钝化层和硅层；形成在衬底层上的后道工序(BEOL)层；以及形成在BEOL层上的第三钝化层，与一个或多个第二凸块形成电连接，其中衬底层包括：第一信号硅通孔(T...
该专利属于三星电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社授权不得商用。

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