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在实施例中,半导体器件包括:集成电路管芯;至少部分地围绕集成电路管芯的密封剂,该密封剂包括具有平均直径的填充剂;延伸穿过密封剂的通孔,通孔的下部具有恒定的宽度,并且通孔的上部具有连续减小的宽度,上部的厚度大于填充剂的平均直径;以及再分布结构...该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。
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在实施例中,半导体器件包括:集成电路管芯;至少部分地围绕集成电路管芯的密封剂,该密封剂包括具有平均直径的填充剂;延伸穿过密封剂的通孔,通孔的下部具有恒定的宽度,并且通孔的上部具有连续减小的宽度,上部的厚度大于填充剂的平均直径;以及再分布结构...