温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明实施例公开了一种化学气相沉积装置以及一种氮化钨薄膜的沉积方法，其中，所述化学气相沉积装置包括：反应腔室、支撑结构、以及气体喷洒部件和气体补偿部件；所述支撑结构，设置在所述反应腔室中；所述支撑结构的上表面用于支撑需要沉积薄膜的衬底；所述...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。