温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及光刻工艺技术领域，具体涉及一种应用于表面有台阶的晶圆的涂胶及光刻方法，包括以下步骤:在晶圆表面进行增粘处理；对增粘处理后的晶圆进行涂胶，以在所述晶圆的表面形成光刻胶层；对所述光刻胶层进行第一次烘烤；对第一次烘烤后的光刻胶层进行第二...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。