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一种用于图案化半导体器件的光学光刻系统及其使用方法。在实施例中，一种光学装置包括：光路；棱镜，设置在所述光路上；透镜，设置在所述光路上；以及可调谐反射镜，设置在所述光路上，所述可调谐反射镜包括：反射镜，在其正面具有凹面；后支架，贴附到所述反...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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