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立体存储器元件及其制作方法技术
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文档序号:26382260
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本发明公开了一种立体存储器元件及其制作方法,该立体存储器元件包括多层叠层结构、存储层通道层以及开关元件。多层叠层结构包括多个导电层、多个绝缘层和至少一个开口。绝缘层与导电层沿着一个堆叠方向交错堆叠,开口穿过导电层。存储层与导电层至少部分重叠...
该专利属于旺宏电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过旺宏电子股份有限公司授权不得商用。
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