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本发明公开一种基于光刻机双工件台运动系统的垂向保护方法及装置。方法包括：在微动台下方设有电涡流传感器，以及水平位移测量机构。根据被测量点与电涡流传感器基准点之间的距离，以及电涡流传感器基准点的坐标，计算得出微动台下表面各个被测量点的坐标。利...
该专利属于清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学授权不得商用。

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