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本发明实施例提供一种半导体腔室及退火装置，该半导体腔室包括腔体，以及用于去除该腔体内的金属污染物的吹扫装置，该吹扫装置包括至少两条进气管路和匀流结构，其中，匀流结构设置在腔体内，且具有匀流腔；至少两条进气管路均与匀流腔连通，用于向匀流腔分别...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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