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本发明提供一种导流器和外延晶片制造设备，涉及外延晶片制备领域，所述导流器应用于外延晶片制造设备的排气部件，所述排气部件包括相对设置的第一进气口和第一出气口，以及贯通所述第一进气口和所述第一出气口的、用于容纳所述导流器的排气通道；所述导流器包...
该专利属于西安奕斯伟硅片技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西安奕斯伟硅片技术有限公司授权不得商用。

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