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本发明提供了一种集成电路数字后端设计的方法和系统，所述方法，包括以下步骤：标注在版图设计中需要出第一引脚的若干个第一金属；对于每个第一金属，在所述第一金属中需要禁止出通孔处添加一层识别层；根据所述识别层和所述第一金属，得到物理库信息；导出所...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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