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本发明提供了一种增强二维图形OPC模型精度的方法，包括：将版图上的图形分为第一区域和第二区域，将图形转移到晶片上；获得晶片的第一区域显影后的图形的线宽大小和矢量轮廓图；获得晶片上的第二区域刻蚀后的图形的轮廓线和光刻胶初始图形斜率；获得第一区...
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