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本发明涉及一种具有高掺杂层的分裂栅功率MOSFET器件及其制备方法，属于半导体器件领域，解决了现有技术无法在提高击穿电压的同时进一步降低器件通态电阻的问题。MOSFET器件导通区包括若干个周期性排列的原胞，每个原胞均包括沟槽、屏蔽电极和沟槽...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。

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