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一种基板处理装置及蚀刻基板的控制方法，基板处理装置包含基板承载模块、流体供应模块、侦测模块及控制模块。基板承载模块包括旋转台以供设置基板。流体供应模块包括喷嘴以供应蚀刻液。侦测模块包括光源发射器及光谱接收器，光源发射器用以发射光线至基板，光...
该专利属于辛耘企业股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过辛耘企业股份有限公司授权不得商用。

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