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本实用新型提供一种晶圆清洗设备，包括依次排列设置的上料部、清洗部和下料部，所述上料部设置有上料区域，所述上料部包括上料机构，所述上料机构具有上料端，所述上料机构用于将所述上料端处的晶圆承载装置传输至所述上料区域；所述下料部设置有下料区域，所...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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