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公开了一种EUV系统，该EUV系统包括用于以液体形式累积目标材料碎片的措施，其中目标材料被阻隔喷吐到光学元件上，并且在其中可以引起目标材料固化并且然后传送到目标材料可以被熔融并且被允许排掉而不会污染收集器的位置。...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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