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本申请提供一种痕量气体分析装置以及方法，其中，装置包括：采样管、采样室、气体分析单元、吸附单元、真空泵单元以及监测采样室真空度的真空计；采样管的出气口与采样室的进气口连通，采样管的进气口用于连通工艺腔室的出气口，工艺腔室输出的待测气体以分子...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。

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