一种痕量气体分析装置以及方法制造方法及图纸

本申请提供一种痕量气体分析装置以及方法，其中，装置包括：采样管、采样室、气体分析单元、吸附单元、真空泵单元以及监测采样室真空度的真空计；采样管的出气口与采样室的进气口连通，采样管的进气口用于连通工艺腔室的出气口，工艺腔室输出的待测气体以分子流的流动状态经采样管输送至采样室；采样室的出气口与气体分析单元的进气口、吸附单元的进气口和真空泵组的抽气口分别连通。本申请待测气体以分子流的流动状态输送至采样室，从而消除了痕量气体采样时的分子歧视效应，痕量气体以外的气体被吸附单元吸附了，采样室内的痕量气体的分压和工艺腔室内的痕量气体的分压是相同的，即痕量气体具有较高的信号。因此，提高了痕量气体分析结果的准确度。

【技术实现步骤摘要】
一种痕量气体分析装置以及方法
本申请涉及测量
，具体涉及一种痕量气体分析装置以及方法。
技术介绍
在工业生产领域中，常常需要分析各类工艺腔室的气体成分、分压和浓度，尤其是其中痕量气体的气体成分、分压和浓度，以判断生产工艺是否满足技术要求，并及时反馈控制，确保工业生产的正常运行。例如：气体激光器在工业上具有广泛的应用，其性能与工质气体的成分与浓度，以及工质中的污染性痕量气体的含量密切相关，需要实时分析气体激光器放电腔内的痕量气体成分及浓度。再如，极紫外(EUV)光刻机真空系统包含许多个不同要求的工艺腔室，需要时刻对各真空腔内的痕量气体含量进行严密监测，如O2和CxHy等气体的成分和分压。因此，需要提供一种能够较为准确地分析工艺腔室气体成分、分压的痕量气体分析装置。
技术实现思路
本申请的目的是提供一种痕量气体分析装置以及方法。本申请一方面提供一种痕量气体分析装置，包括：采样管、采样室、气体分析单元、吸附单元、真空泵单元以及监测所述采样室真空度的真空计；所述采样管的出气口与所述采样室的进气口本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种痕量气体分析装置，其特征在于，包括：采样管、采样室、气体分析单元、吸附单元、真空泵单元以及监测所述采样室真空度的真空计；/n所述采样管的出气口与所述采样室的进气口连通，所述采样管的进气口用于连通工艺腔室的出气口，所述工艺腔室输出的待测气体以分子流的流动状态经所述采样管输送至所述采样室；/n所述采样室的出气口与所述气体分析单元的进气口、所述吸附单元的进气口和所述真空泵组的抽气口分别连通，其中，所述吸附单元用于吸附所述待测气体中的主体气体。/n

【技术特征摘要】
1.一种痕量气体分析装置，其特征在于，包括：采样管、采样室、气体分析单元、吸附单元、真空泵单元以及监测所述采样室真空度的真空计；
所述采样管的出气口与所述采样室的进气口连通，所述采样管的进气口用于连通工艺腔室的出气口，所述工艺腔室输出的待测气体以分子流的流动状态经所述采样管输送至所述采样室；
所述采样室的出气口与所述气体分析单元的进气口、所述吸附单元的进气口和所述真空泵组的抽气口分别连通，其中，所述吸附单元用于吸附所述待测气体中的主体气体。


2.根据权利要求1所述的痕量气体分析装置，其特征在于，所述采样管包括至少一段分子流段，所述分子流段的内径不大于λ/10，λ为经过所述分子流段的所述待测气体的分子自由程。


3.根据权利要求2所述的痕量气体分析装置，其特征在于，所述分子流段为毛细管或微孔结构。


4.根据权利要求2所述的痕量气体分析装置，其特征在于，所述采样管上位于所述采样管的进气口和所述分子流段之间的管段上开设有分压口，所述分压口与所述真空泵单元的抽气口连通。


5.根据权利要求3所述的痕量气体分析装置，其特征在于，所述采样管上位于所述分压口与所述分子流段之间的管段上设有气压计。


6.根据权利要求1所述的痕量气体分析装置，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：王魁波，吴晓斌，谢婉露，罗艳，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11