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本发明公开了一种硅晶片清洗装置，包括清洗台，所述清洗台上固定有清洗巾，清洗巾的上方设有硅晶片输送机构，硅晶片输送机构包括三个圆周均布的吸盘，其中一个吸盘正对清洗台；所述清洗台固定在中心芯轴的上端，中心芯轴的下端插套在机架上，机架上设有驱使中...
该专利属于赣州市业润自动化设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过赣州市业润自动化设备有限公司授权不得商用。

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