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本发明公开了一种MOCVD装置，包括进样室、传输系统、MOCVD反应室、保护密封管及后处理室；所述进样室用于接收待处理样品；所述MOCVD反应室包括喷淋头及样品台，进行气相沉淀处理的药品从所述喷淋头喷出，达到放置于所述样品台表面的所述待处理...
该专利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院长春光学精密机械与物理研究所授权不得商用。

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