温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供了一种真空吸盘、真空吸附装置及其工作方法，属于半导体技术领域。真空吸盘，包括：吸盘本体；设置在所述吸盘本体的吸附面上的密封圈；设置在所述吸盘本体的吸附面上、位于所述吸盘本体边缘的密封隔离环，所述密封隔离环位于所述密封圈远离所述吸盘...
该专利属于西安奕斯伟硅片技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西安奕斯伟硅片技术有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。