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本发明公开了一种用于外延反应腔室的衬里装置及外延反应腔室,装置包括:下部衬环以及置于下部衬环上方且与下部衬环同轴设置的上部衬环;下部衬环的朝向上部衬环的一面设置有的导气槽和排气槽,导气槽和排气槽沿下部衬环的周向相对设置,且导气槽的导气方向与...该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种用于外延反应腔室的衬里装置及外延反应腔室,装置包括:下部衬环以及置于下部衬环上方且与下部衬环同轴设置的上部衬环;下部衬环的朝向上部衬环的一面设置有的导气槽和排气槽,导气槽和排气槽沿下部衬环的周向相对设置,且导气槽的导气方向与...