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存储器件及其形成方法技术
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文档序号:26045360
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存储器件包括底部选择栅(BSG)结构。在衬底上穿过BSG结构垂直形成切缝。在BSG结构上形成单元‑层结构。栅极线狭缝垂直穿过单元‑层结构和BSG结构形成至衬底中,并且沿第一横向方向布置以区分指状区域。栅极线狭缝包括在第一指状区域与第二指状区...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有,仅供学习研究参考,未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。
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