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本实用新型提供一种用于刻蚀机台的电极，其包括内电极，所述内电极的下表面具有凸起部，所述凸起部朝向远离所述内电极的方向凸起。本实用新型的优点在于，提高刻蚀目标物上方的等离子体密度的均匀性，避免由于等离子体密度不均匀而造成的栅线及沟道关键尺寸发...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。

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