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本公开提供一种半导体存储器、其制作方法及一种电子设备。本公开的半导体存储器包括：位线层，具有至少两条位线；有源层，位于所述位线层上方并且包括至少两个有源区，所述两个有源区在位线层所在水平面投影的连线与位线方向倾斜相交形成交点，并且所述两个有...该专利属于中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司授权不得商用。