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一种用于确定光刻投影装置中元件表面污染物的测量设备。该测量设备具有用于将辐射投射到至少一部分所述表面上的辐射发射器设备和用于接收来自该元件的辐射的辐射接收器设备。处理器设备与辐射接收器设备通信连接，用于得到接收辐射的一个属性，并根据辐射的该...该专利属于ASML荷兰有限公司;卡尔蔡司SMT股份公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司;卡尔蔡司SMT股份公司授权不得商用。