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作为活性表面增强拉曼光谱术衬底的金属涂覆纳米晶体硅制造技术
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下载作为活性表面增强拉曼光谱术衬底的金属涂覆纳米晶体硅的技术资料
文档序号:2589944
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本发明所公开的方法和设备(300)关于使用金属涂覆纳米粒子多孔硅衬底(240、340)的拉曼光谱术。在本发明的某些实施例中,多孔硅衬底(110、210)可以通过在稀释氢氟酸(150)中的阳极浸蚀形成。通过阴极电迁移或者任何已知技术,诸如金或...
该专利属于英特尔公司所有,仅供学习研究参考,未经过英特尔公司授权不得商用。
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