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一种装置包括密集阵列寻址器件和光耦合到该密集阵列寻址器件的分光仪。一种方法包括通过表征密集寻址设备上的之后的电解速度来确定目标分子与密集阵列寻址器件的结合和／或欠结合。一种方法包括采用大马士革图案处理来制造密集阵列寻址器件。...
该专利属于英特尔公司所有，仅供学习研究参考，未经过英特尔公司授权不得商用。

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