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本申请实施例提供了一种半导体工艺设备及其工艺腔室。该工艺腔室包括：腔室本体、固定内衬及活动内衬；腔室本体的侧壁上开设有传片口；固定内衬设置于腔室本体内，且环绕侧壁设置，用于遮蔽侧壁，固定内衬上对应于传片口的位置设置有缺口；活动内衬设置于腔室...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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