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完全自对准通孔过程中使用多种材料的半导体后段互连制造技术
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下载完全自对准通孔过程中使用多种材料的半导体后段互连的技术资料
文档序号:25759960
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用于完全自对准通孔(FSAV)过程中使用多种材料的半导体后段(BEOL)互连的系统和方法的实施方式。在实施方式中,方法包括接收具有形成在基板的表面上的图案化结构的基板。方法还可以包括在图案化结构的第一区域中沉积第一互连材料。这样的方法还可以...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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