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基板处理装置、基板处理方法以及存储介质制造方法及图纸
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文档序号:25696828
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涂布/显影装置(2)具备:去除液供给部(50),其具有用于向晶圆(W)的周缘部喷出去除液的去除液喷嘴(52);驱动部(60),其使包括去除液喷嘴(52)的移动体(51)移动;传感器(70),其检测与移动体(51)的位置有关的信息;以及控制部...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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