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本发明的目的在于提供一种半导体制造工艺中的EUV(Extreme Ultraviolet，极紫外)光源用光刻胶显影液组合物，且涉及一种将包括2～10重量％的四乙基氢氧化铵(TEAH)的水溶液作为特征的EUV光源用微细图案形成用光刻胶显影液组...
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